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交互吸着法

交互吸着(Layer By Layer)法は環境負荷の少ない水系のコーティングでありながら、ナノオーダーの厚み制御が可能であるため、次世代薄膜コーティングとして期待されています

従来の「ドライプロセス」による薄膜製造装置は、真空条件を必要とするなど、コスト面でのデメリットもありましたが、「ウェットプロセス」では、常温・常圧下で低コストに製膜することが可能となりました。

薄膜の用途

■LCD 反射防止フィルム カラーフィルター 反射フィルム プリズムシート用 液晶配向膜 層間絶縁コート剤 光学ディスプレイ粘着剤 透明導電性フィルム ■PDP 誘電体層 バリアリブ材料 誘電体保護膜 蛍光体ペースト 光学フィルタ 反射防止フィルム 電磁波シールドフィルム 近紫外線吸収剤

■有機EL 発光層 電子・正孔輸送層、他 封止乾燥剤 ■半導体 フォトレジスト材料 パッシベーション膜 アンダーフィル 液状封止材料 ■実装/基板/ハウジング他 FPCコーティング ビルドアップ基板層間絶縁膜 導電性接着剤 放熱コーティング材 電磁波シールド材 絶縁用コーティング材

■情報記録関連分野 ハードディスク Blue-Lay／HD-DVD用コート材料 光ディスク（CD、CD-R、DVD等） ナノインプリント用材料 磁性コート材料 昇華型プリンター用紙 ■光学関連分野 光学レンズ用 光ファイバー用 光ファイバー結合用接着剤 光部品用シール剤 光導波路用形成材料 ■その他分野 飲料容器用（缶・びん・PETボトル用） 蒸着フィルム（アルミ、シリカ、透明）

薄膜形成技術

交互吸着法の原理

プラスの電荷とマイナスの電荷を持った物質間に働く静電気力（クーロン力）により連続的に吸着

交互吸着法による薄膜作製の原理



交互吸着法による高分子電解質の積層モデル

交互吸着法の特徴

	ドライコーティング	従来の ウェットコーティング	交互吸着法
特徴	高温・真空中での薄膜作製 ナノスケールオーダで膜厚制御が可能 薄膜の密着性が良い 薄膜の均一性が良い	溶液中での浸漬による薄膜作製（有機溶媒系） 膜厚制御が困難 膜の結晶化のため高温処理か必要 簡単なプロセス	調製した溶液（pH,濃度など）中での浸漬による薄膜作製（水系） 常温常圧による薄膜作製 ナノスケールオーダで膜厚制御が可能 使用材料（有機・無機）
生産性	真空装置のスペースに限定される 製造コストが高い	常温常圧による作製のため、拡大が容易 廃液処理・廃ガス処理が必要	常温常圧による作製のため、拡大が容易（ロール装置） 環境にやさしい

交互吸着膜の用途

・超親水化：コンタクトレンズ, 曇り止め膜
・ナノオーダでの膜厚制御：光学フィルタ、反射防止（AR）膜
・高比表面積膜：ガスセンサ、ケミカルフィルタ
・微粒子への膜： 光学用の微粒子、触媒、ドラッグデリバリ−、プロテインカプセル
・有機/無機積層膜：磁気デバイス、電子デバイス、光学用デバイス
・機能性材料積層膜：導電性膜、有機EL素子、バイオセンサ、セルプクリ−ニング膜
※基材：ガラス、金属、微粒子、メンブレイン、紙、PET ・・・

交互吸着膜の製造

SNTでは交互吸着法を利用した質量制御型の交互吸着膜製造装置「ナノフィルムメーカー」を開発致しました。 さまざまな材料を自由に製膜。ナノメートルオーダーでの制御を実現し、新しい分野の研究開発に貢献します。

特徴
・LBLの基本となる液槽を最大で16個装備
・さまざまな薄膜シーケンスの設計をサポートするPC
・精度高いナノ薄膜を可能にする水晶振動子内蔵
・基本的な積層膜作製方法がわかるガイド書付き

詳細はナノフィルムメーカー製品詳細をご覧下さい。

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